Substrate สตาร์ทอัปมะกัน ท้าชน ASML ด้วยเทคโนโลยี X-ray หวังทวงบัลลังก์ชิป

เปิดฉากศึกชิงบัลลังก์เทคโนโลยีชิป เมื่อ Substrate สตาร์ทอัปสัญชาติอเมริกัน ประกาศตัวขอท้าชน ASML ยักษ์ใหญ่จากเนเธอร์แลนด์ที่ครองตลาดเครื่องจักรผลิตชิป (Lithography) แบบเบ็ดเสร็จ โดยชูเทคโนโลยีใหม่ที่ใช้รังสี X-ray แทนแสง EUV (Extreme Ultraviolet) ที่ใช้กันอยู่ในปัจจุบัน หวังปลดแอกอุตสาหกรรมชิปสหรัฐฯ จากการพึ่งพาเทคโนโลยีต่างชาติ

ความเคลื่อนไหวนี้ไม่ได้มาเล่นๆ เพราะ Substrate เพิ่งระดมทุนไปได้ถึง US$100 ล้าน (≈ 3.238 พันล้านบาท) จากนักลงทุนรายใหญ่อย่าง Founders Fund ของ Peter Thiel ทำให้มูลค่าบริษัทพุ่งแตะ US$1 พันล้าน (≈ 3.238 หมื่นล้านบาท) ไปเรียบร้อย ทั้งๆ ที่ยังเป็นแค่แนวคิดและเทคโนโลยีตั้งต้นเท่านั้น สะท้อนให้เห็นความคาดหวังอย่างสูงที่จะได้เห็นเทคโนโลยีสัญชาติอเมริกันแท้ๆ กลับมาผงาดในวงการอีกครั้ง

หัวใจของเทคโนโลยีที่ Substrate ภูมิใจนำเสนอก็คือ การใช้รังสี X-ray ซึ่งมีช่วงคลื่นที่สั้นกว่าแสง EUV ที่ 13.5 นาโนเมตร ทำให้สามารถสร้างลวดลายบนแผ่นเวเฟอร์ได้ซับซ้อนและแม่นยำยิ่งขึ้น (Multi-patterning) บริษัทอ้างว่าเทคนิคนี้จะช่วยลดต้นทุนในกระบวนการผลิตชิปลงได้อย่างมหาศาล ผ่านการพัฒนากระบวนการมาสก์และรีซิสต์ (Mask/Resist flow) ที่แข็งแกร่งกว่าเดิม

แต่แน่นอนว่าหนทางไม่ได้โรยด้วยกลีบกุหลาบ แม้แนวคิดจะน่าตื่นเต้น แต่ความท้าทายที่แท้จริงคือ Substrate จะสามารถนำเทคโนโลยี X-ray ไปใช้ในการผลิตชิปจำนวนมหาศาล (High-Volume Manufacturing) ได้จริงหรือไม่ ในขณะที่เทคโนโลยี EUV ของ ASML นั้นทั้งแข็งแกร่งและเป็นที่ยอมรับในอุตสาหกรรมมานานแล้ว การจะให้ผู้ผลิตชิปหันมาใช้เทคโนโลยีใหม่ที่ยังไม่ผ่านการพิสูจน์จึงเป็นเรื่องยาก การประกาศว่าจะมาแทนที่ ASML เลยดูจะเป็นเป้าหมายที่ไกลเกินเอื้อมไปหน่อย... อย่างน้อยก็ในตอนนี้

งานนี้ก็ต้องจับตาดูกันยาวๆ ว่า Substrate จะเป็นผู้เปลี่ยนเกมได้จริง หรือเป็นเพียงสตาร์ทอัปไฟแรงที่มาพร้อมความฝันอันยิ่งใหญ่เท่านั้น

*อัตราแลกเปลี่ยน ณ วันที่ 29 ต.ค. 2025: US$1 = 32.38 บาท